2025年3月22日牛财金消息,在中美科技博弈持续升级的背景下,中国半导体产业正以“本土化替代”为突破口加速突围。3月26日至28日,全球半导体行业盛会SEMICON China 2025将在上海新国际博览中心举行,其中深圳新兴企业SiCarrier新凯来的首次公开亮相引发高度关注。这家与华为技术可能存在潜在关联的国产设备制造商,将通过“名山系列”高端半导体设备,向世界展示中国突破美国技术封锁的实力。
新凯来首秀:以“名山”之名,破技术壁垒
成立于2021年的新凯来,其发展轨迹与美国对华技术制裁几乎同步。2023年,公司凭借一项5纳米芯片制造专利引发行业震动,该技术通过优化深紫外光刻(DUV)设备,绕开美国对高端极紫外光刻(EUV)技术的封锁,被业界认为是华为2024年推出7纳米芯片的Mate 60 Pro手机的关键技术支持(双方未公开确认)。
此次展会,SiCarrier将首次公开其核心产品,以中国名山命名的五大设备系列:
峨眉山(Emei):用于半导体外延生长的先进设备;
武夷山(Wuyi):刻蚀系统;
长白山(Changbai):化学气相沉积(CVD)设备;
普陀山(Putuoshan):物理气相沉积(PVD)设备;
阿里山(Alishan):原子层沉积(ALD)工具。
这一命名策略既彰显文化自信,也传递出“攀登技术高峰”的决心。尽管公司官网对技术细节和管理层信息高度保密,但其在微信公众号发布的参展预告中强调,作为“核心半导体设备供应商”,新凯来致力于“为中国芯片产业提供新选择”。
本届SEMICON China展览面积达10万平方米,汇聚1400家展商,涵盖芯片设计、制造、封装、设备、材料全产业链。展会同期将举办20余场论坛,包括“全球半导体产业战略峰会”“汽车芯片”“先进材料”等主题,直击行业前沿。
国际巨头持续加码:
Lam Research
Siemens EDA
本土企业集体突围:
东丽集团
Naura Technology
本届展会恰逢美国对华技术限制进一步收紧。2024年底,美国扩大对先进芯片制造设备、高带宽内存(HBM)的出口管制,并施压荷兰ASML等企业限制DUV光刻机对华销售。在此背景下,新凯来等本土企业的技术突破被视为“自主可控”的关键。
中国半导体行业协会(CSIA)名誉理事长陈南翔(YMTC长江存储董事长)与华虹半导体总裁白朋将在展会论坛中发表演讲,强调中国需通过“产学研协同”加速技术迭代。
尽管新凯来的专利技术引发关注,但量产能力、供应链整合仍是待解难题。行业人士指出,先进制程芯片制造需协同光刻、材料、设计工具等多环节突破,而美国对华制裁已形成“技术围堵网络”。
然而,中国半导体产业正通过“政策+资本+市场”三重驱动快速追赶。SEMI数据显示,2024年中国半导体设备市场占比达43%,本土化率提升至23%,部分领域已实现替代。
从SiCarrier的“名山”设备,到东丽的材料创新,再到全球巨头的持续参与,SEMICON China 2025不仅是一场技术展示会,更是中国半导体产业“突围之路”的缩影。在地缘政治与技术竞争的双重压力下,这场在上海举办的行业盛会,或将见证中国在全球半导体格局中的话语权跃升。
展会亮点速览:
时间:2025年3月26日-28日
地点:上海新国际博览中心
新凯来展位:N2馆2671号(与东丽集团同馆)
核心议题:AI芯片、汽车电子、材料创新、本土化替代