中国半导体设备企业拓荆科技(688072.SH)发布业绩快报，2022年营业总收入17.05亿元，较2021年增加约9.48亿元，同比增长125.02%。归属于母公司所有者的净利润3.68亿元，同比增长438.09%。基本每股收益3.18元，同比增加341.67%。归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润1.78亿元，同比扭亏为盈。
报告期内，归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润增加约2.6亿元，主要系营业收入规模大幅增长，整体盈利能力持续提升。报告期末，总资产、归属于母公司的所有者权益、归属于母公司所有者的每股净资产等指标较期初分别增长190.47%、211.21%和133.49%，主要系2022年4月完成首次公开发行股票并在科创板上市收到募集资金及归属于上市公司股东的净利润增加。
报告期内，公司2022年营业收入增长主要系：受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加，同时公司继续加大产品研发投入，产品结构不断优化，产品竞争力持续增强，并进一步拓展客户群体，本年销售订单大幅增加，营业收入维持高增长趋势。
受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加，同时公司继续加大产品研发投入，产品结构不断优化，产品竞争力持续增强，并进一步拓展客户群体，本年销售订单大幅增加，营业收入维持高增长趋势。
据牛财金资料显示，拓荆科技目前主要产品包括PECVD设备、ALD设备和SACVD设备三个产品系列。根据公司初步统计，2022年度的营业收入构成仍以这三类设备产品为主。根据公司现阶段经营计划，预计2023年产品结构不会有较大调整。公司产品已广泛应用于国内成熟制程集成电路制造产线。
对于产品布局，拓荆科技表示，公司将在现有产品基础上，持续提升产品竞争力，不断扩大市场规模，并继续在高端半导体薄膜设备领域深耕，围绕CVD现有市场做深做精，不断在细分领域内拓展产品、工艺的覆盖面，扩大市场占有率。
2021年1至12月份，拓荆科技的营业收入构成为：PECVD设备占比89.11%，SACVD设备占比5.43%，ALD设备占比3.78%，其他业务占比1.68%。
拓荆科技的董事长是吕光泉，是半导体技术方面的专家。
吕光泉为美国加州大学圣地亚哥分校博士，
1994年8月~1996年4月，任美国科学基金会尖端电子材料研究中心电子材料副研究员;
1996年4月~2007年7月，就职于美国诺发，历任高级工程师、PECVD工艺研发部经理、项目主任兼工艺研发高级经理、ALD技术高级经理;
2007年7月~2014年8月，就职于德国爱思强公司。
2014年9月，加入拓荆科技。
拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm 及以下制程产品验证测试。 拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD 设备厂商，以前后两任董事长为核心的五名国家级海外高层次专家组建起一支国际化的技术团队，形成了三大类半导体薄膜设备产品系列，先后四次承担国家重大科技专项/课题，被中国半导体行业协会评为2016 年度、2017 年度、2019 年度“中国半导体设备五强企业”。
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